Novo método permite fabricação de chips ainda menores

Do Nist


Graças em parte a medições altamente precisas feitas por pesquisadores do Instituto Nacional de Padrões de Tecnologia (Nist), os fabricantes de semicondutores poderão adotar um novo método que lhes permitirá produzir novas gerações de chips de computador usando os equipamentos existentes - e poupando à indústria centenas de milhões de dólares.

Criar chips de computador cada vez mais poderosos depende da capacidade de miniaturizar cada vez mais as características desses chips. A indústria havia pensado estar perto do fim da vida útil de equipamentos que criam características usando o comprimento de onda de 193 nanômetros (nm).

No entanto, um novo método chamado litografia de imersão usa uma fina camada de água como lente para encurtar os comprimentos de onda efetivos da luz ultravioleta usada na padronagem de chips semicondutores. O método conta com o fato de a luz se deslocar mais lentamente através da água do que do ar. A freqüência da luz permanece a mesma, por isso a distância entre os picos (o comprimento de onda) deve ser encurtada para compensar.

O método deveria permitir que os fabricantes usem equipamento de 193 nm para criar linhas de circuito e outras características pelo menos tão pequenas quanto 45 nm. Esse avanço permite que os fabricantes criem chips muito mais poderosos enquanto obtêm mais vida de seu atual equipamento de fabricação, que pode custar cerca de US$ 20 milhões por ferramenta.

A indústria começou a levar a sério a litografia por imersão cerca de um ano atrás. Com o apoio do International Sematech, o consórcio de pesquisa e desenvolvimento da indústria de semicondutores, cientistas do Nist fizeram medições altamente precisas de uma propriedade chamada índice refrativo, uma medida de quanta luz ultravioleta em um comprimento de onda de 193 nm se dobra quando passa do ar para a água. Esse novo dado ajudou a indústria de semicondutores a criar sistemas de litografia por imersão.

Pesquisadores do Nist descreveram os principais resultados de seu trabalho na conferência Microlitografias 2004 da Sociedade Internacional de Engenharia Óptica. Os pesquisadores também estão trabalhando com a indústria em novos fluidos de imersão para ferramentas de fabricação de chips com comprimento de onda de 157 nm, para que esse equipamento possa produzir características de 32 nm ou menos.



Tradução: Luiz Roberto Mendes Gonçalves

 

 

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